Enscape 4.2 现已推出：介绍 Enscape Impact

Enscape 4.2 现已推出：介绍 Enscape Impact

 

最新版本为您提供了主机应用程序特定的功能，以便与设计应用程序更紧密地集成。这一系列更新增强了 Enscape 最重要的优势——它与主机应用程序的无缝集成，使您能够比以往更快、更精确地工作。Enscape 4.2 包括：

• Enscape Impact
• Revit 图形覆盖
• 支持 Rhino 中的 WCS 映射
• 软件光线追踪改进
• 多个剖面
• 还有更多！

 

查看新功能

通过这些更新，体验实时可视化的速度和便捷性。

Enscape Impact 附加组件

这款全新的附加组件可让您在设计的早期阶段查看建筑物的能源性能，让您能够就设计的可持续性做出明智的决策。它与 Enscape 4.1 和 4.2 兼容。

• 访问高级建筑性能数据。
• 与利益相关者轻松沟通性能效率。

 

Revit 图形覆盖

查看 Revit 过滤器定义的渲染中的材质和颜色覆盖。此功能可确保渲染工具反映 Revit 中使用的相同对象外观和覆盖，从而增强工作流程和演示准确性。

• 保持 Revit 和 Enscape 之间的一致性，简化设计和演示流程。
• 通过在 Enscape 中显示或隐藏 Revit Filter 覆盖来控制渲染视图。

 

 

支持 Rhino 中的 WCS 映射

此功能允许您利用世界坐标系 (WCS) 映射材料，提供更灵活的工作流程并确保真实世界的比例和准确性，特别是对于默认设置为使用 WCS 映射的库材料。

• 通过精确的材质渲染获得更准确的视觉输出。
• 使用默认为 WCS 映射的库材料简化设计流程。

 

 

软件光线追踪改进

改进包括全局照明和太阳阴影的软件光线追踪，可让您的渲染更加逼真。享受更逼真的照明、细致的阴影、镜面反射和增强的色彩准确度。而且，您的太阳阴影可受益于更准确的光线方向、强度和柔和度。

• 在任何设备上提供高质量渲染，包括 Mac 和集成显卡的机器。
• 在没有硬件光线追踪的机器上实现与硬件光线追踪相当的视觉保真度。

 

 

多个剖面

剖面图对于理解和传达建筑空间至关重要。此更新使 Enscape 能够支持在 Rhino 中渲染最多六个剖面和在 Vectorworks 中渲染剪切立方体，从而增强详细的横截面可视化。

• 更好地理解客户并进行有影响力的演示。
• 拥有更多控制选项并按照您想要的方式讲述设计故事。

 

Chaos Cloud

此集成可让您在 Chaos Cloud 上执行设计审查流程的每个步骤。上传全景图和渲染图，并使用标记工具直接在可视化效果上进行注释。您还可以分配平面图并使用迷你地图协助游览导航。

• 轻松与您的团队和同事在一个地方协作
• 让客户通过高级虚拟导览探索设计